SJT 31067-1994 S枪磁控溅射台完好要求和检查评定方法

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中华人民共和国电子行业标准,S枪磁控溅射台,完好要求和检查评定方法,sj/t 31067-94,主题内容与适用范围,本标准规定了 s枪磁控溅射台的完好要求和检查、评定方法,本标准适用于进ロS枪磁溅射台,2名询与术语,2.1 磁控溅射——利用正交的电磁场,有效地将电子运动限制在阴极表面附近,使阴极附近,气体分子的电离和激发几率提高的溅射,2.2 S枪一磁控装置的ー种形式,由EXB场的结构所决定,阴极附近会形成一片强等离,子区,2,3 薄膜粘附性——用于表示薄膜与衬底材料结合的牢度,3完好要求,3.1 主耍技术指标,s枪磁控溅射台完好要求检测的主要技术指标有:,a.抽真空速率;当真空度达到6.7X10-4Pa时,抽真空时间应小于120min,b.极限真空度;1.3X10TPa,c.溅射速度(AL材料);》5 A/min,d.薄膜溅射均匀性;《5%,3.2 操作系统,3. 2.1各操作,变速旋扭、开关、按扭及指示灯启动灵活,定位可靠,标志齐全,3.2.2定位、限位装置齐全,灵敏、可靠,3.3 传动系统,3.3.1 溅射台机械部分运转平稳,无冲击、无振动,3.3.2 射底支架、挡板的齿轮咬合准确,变速机构变速齐全,灵活可靠,运行时无振动、无异常,噪音,3.4 润滑系统,3.4.1 润滑装置齐全,完整无损,作用良好,3.4.2 管路齐全,油路畅通、油滴明亮、油标醒目,油质.、油量符合规定要求,3.4.3 油霜、油杯、油眼清洁,无堵塞现象,润滑良好、基本无漏油,即每ー漏油点滴油数3min,中华人民共和国电子工业部1994-04-15批准 1994-06-01实施,下载,sj/T 31067-94,内,不得超过一滴,3.4.4 机械泵、分子泵、变速箱油位标志醒目,油位清晰,油质符合规定要求,3.5 真空系统,3. 5.1真空系统密封性能良好,真空度能达到规定要求,3. 5.2对轴速、真空腔压カ及进入真空腔的气体流量可进行监控,3.5.3扩散泵运行正常。机械泵、分子泵的具体完好要求,参照SJ/T 31412—94机械泵完好,要求执行,3-6气压系统,3. 6.1由压缩空气控制的部分,减压阀调整应灵活、准确,压カ范围满足工作要求,3.6- 2气路系统联接牢固,密封性好,无漏气现象,2.6.3配有专用空压机的,其完好要求应按空气压缩机完好要求执行,2.7电气系统,3.7.1电气系统性能灵敏、运行可靠,保护装置齐全、有效,3. 7- 2电源在规定范围内输出稳定,电气控制部分能对真空系统及溅射过程进行监控,2.7.3线路完整,绝缘层无破裂、无漏电现象,3.8 微机控制部分,3.8.1 微机控制部分功能齐全,显示准确,性能稳定,3.8.2 内部清洁,各线路标志明显,3.8.3 接插件接触状态良好,3.9 附件,3.9.1 附件齐全,保管良好,无锈蚀无损伤,3. 9.2贵重金属附件(如靶材)应放置于适当地方,3.10 附属装置,3.10.1 磁控溅射台的电源柜、气柜、水源应按标准配置,?3.10.2各连接管线应严密,无漏电、漏水及漏气现象,3.11 安全防护,3.11.1 各安全防护装置齐全、可靠,3.11.2 接地可靠,标志明显,3.11.3 高压、大电流设备及有毒、易燃易爆气体的防护装置应绝对安全、可靠,接地良好,3.11.4 冷却水压カ满足要求,3.12 维护保养,3.12.1 泵油应及时更换,3.12.2 真空腔内按规定定期进行清理,真空配件应避免外界的各类沾污,3.12.3 其他按SJ/T 31002—94《设备维护保养通则》执行,4检查、评定方法,4.1 检查方法,4.1.1 抽真空速率的检测方法,按设备操作要求对真空室抽真空,记录从开机开始达到6.7X10-4Pa的时间,4.1.2 真空度的检测方法,2,sj/t 31067—94,按设备操作要求对真空室抽真空,在经过一定时间后,记下真空腔能达到的最低压强(即,以后在较长时间抽气过程中能产生的压强低10%),4.1.3 溅射速率的检测方法,选择铝材或其它材料为溅射材料,设定一适中功率进行溅射,记录下时间t值,用测厚仪,测量衬底溅射材料的厚度D(样片取自中心点),按(1)式计算溅射速率V:,V = 7(fim/min). ?— (1),4.1.4 薄膜均匀性的检测方法,在衬底上选取有代表性的5点放置样片,按操作规程进行溅射薄膜,用测厚仪分别测5点,样片的薄膜,分析修正后的测试结果:,薄膜均匀性误差=%ポ吧X100%..(2),式中:d皿、eLn—— 膜厚最大值和膜厚最小值;,d——膜厚平均值,4.1.5 对各系统完好要求,在设备现场采用主观检查,4.2评定方法,4. 2. 1 完好耍求所列内容中,3. 1 各项指标和 3. 5. 1-3. 5. 3、3. 7.1~3. 7. 3^3. 11. 1-3.11.4,为主要项目,其余为次要项目,4. 2. 2主耍项目有一项不符合要求,为不完好设备;次要项目有二项不符合要求,亦为不完好,设备,4. 2.3完好设备的维护保养,应达到优等设备标准,附加说明:,本标准由电子工业部经济运行与体制改革司提出,本标准由电子工业部第13研究所组织起草,本标准主要起草人:穆杰、牛爱欣,—3……

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